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去離子水設(shè)備應(yīng)用范圍
1、電子材料加工、單晶硅半導體、半導體材料、液晶顯示器、計算機硬盤、印刷電路板、集成電路；
2、LCD、EL、PDP、TFT、玻殼和顯像管；
3、超純材料和超純化學劑導纖維和光盤；
4、汽車、家電表面電泳漆清洗用水及其它高科技精密產(chǎn)品；
去離子水設(shè)備技術(shù)參數(shù)
機器型號：N 1-100T-DI
制 水 量：1-100 T/H
主要管徑：DN 32
工作壓力：≤1.0MPa
產(chǎn)水電阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm
進水水源：城市自來水
進水水溫：5－35℃
機器電源：380V/50HZ
進水TDS ：≤300ppm
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去離子水設(shè)備產(chǎn)品介紹
東莞市納百川水處理設(shè)備有限公司采用國際先進的反滲透裝置，配套進口混合離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備和紫外線滅菌器、精密過濾器，出水水質(zhì)符合電子部超純水水質(zhì)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級），取代蒸餾水，滿足大專院校、科研機構(gòu)和工業(yè)企業(yè)的實驗、科研和生產(chǎn)對高純度純水的要求。
該設(shè)備廣泛應(yīng)用于電鍍工藝去離子水、電池生產(chǎn)工藝用純水、汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗純水、鍍膜玻璃用純水、紡織印染工藝所需的除硬除鹽水系統(tǒng)。超純水制造技術(shù)的發(fā)展極大地推動了半導體和電子工業(yè)的技術(shù)發(fā)展。
去離子水設(shè)備工藝說明
去離子水的工藝大致分成以下3種：
1、離子交換樹脂制備去離子水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：
原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床→后置保安過濾器→用水點（特點：污染比較大，自動化程度低，初期投入低）
2、反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合制備去離子水的方式，其基本工藝流程為：
原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設(shè)備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點（特點：污染小，自動化程度高，初期投入中等，價格適中）
3、反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配制備去離子水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋?SPAN lang=EN-US>
原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點（特點：環(huán)保，自動化程度高，初期投入大，價格相對比較貴）
去離子水設(shè)備使用說明書
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