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產(chǎn)品簡介
微控擴散爐-廠家直銷-支持定制
微控擴散爐-廠家直銷-支持定制
產(chǎn)品價格:
上架日期:2024-09-13 09:14:41
產(chǎn)地:山東青島
發(fā)貨地:山東青島
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1臺
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詳細說明
    擴散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。

    擴散爐技術(shù)指標(biāo):
    可處理硅片尺寸:2—12英寸
    外型形式:臥式1—4管結(jié)構(gòu)
    工作溫度:200℃—1300℃
    恒溫區(qū)長度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
    單點溫度穩(wěn)定性、重復(fù)性: ≤±1℃/24h
    溫度斜變: 可控升溫速率15℃/min
    可控降溫速率: 5℃/min
    送片裝置:全自動懸臂推拉舟、拉桿式推拉舟
    氣路系統(tǒng):1—5路工藝氣體/管
    氣體控制:全自動MFC
    控制方式:工控機、觸摸屏

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