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產(chǎn)品簡介
程控?cái)U(kuò)散爐-廠家直銷-支持定制-全國供應(yīng)
程控?cái)U(kuò)散爐-廠家直銷-支持定制-全國供應(yīng)
產(chǎn)品價(jià)格:
上架日期:2024-09-13 09:30:44
產(chǎn)地:山東青島
發(fā)貨地:山東青島
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1臺(tái)
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詳細(xì)說明
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工的硅
    片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控方式或者程控方式操作。

    擴(kuò)散爐技術(shù)指標(biāo):
    可處理硅片尺寸:2—12英寸
    外型形式:臥式1—4管結(jié)構(gòu)
    工作溫度:200℃—1300℃
    恒溫區(qū)長度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
    單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性、重復(fù)性:≤±1℃/24h
    溫度斜變:可控升溫速率15℃/min
    可控降溫速率:5℃/min
    送片裝置:手動(dòng)推拉
    氣路系統(tǒng):1—5路工藝氣體/管
    氣體控制:手動(dòng)浮子流量計(jì)
    控制方式:程控

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