廢氣凈化塔的適用范圍：
電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔
漆噴涂、涂裝生產(chǎn)等行業(yè)及領(lǐng)域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進(jìn)入凈化塔。在風(fēng)扇的動態(tài)作用下，它快速地填充進(jìn)氣段的空間，然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸性（或堿性）物質(zhì)與液相中的堿性（或酸性）物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)物（主要是可溶性酸（堿）與吸收劑流入較低的儲罐。未完全吸收的酸性（或堿性）氣體繼續(xù)上升到階段的噴霧。
適用于電鍍生產(chǎn)廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產(chǎn)等行業(yè)和領(lǐng)域。
當(dāng)有機(jī)廢氣的濃度達(dá)到2000PPm以上時(shí)，有機(jī)廢氣在催化床可維持自燃，不用外加熱。燃燒后的尾氣一部分排入大氣，大部分被送往吸附床，用于活性炭再生。這樣可滿足燃燒和吸附所需的熱能，達(dá)到節(jié)能的目的。再生后的可進(jìn)入下次吸附；在脫附時(shí)，凈化操作可用另一個(gè)吸附床進(jìn)行，既適合于連續(xù)操作，也適合于間斷操作。 工業(yè)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。凈化裝置由初濾單元、-C波段紫外線裝置，降解收集，臭氧發(fā)生器及過濾單元等設(shè)備和部件組成。
建議采取二級凈化工藝：級采用袋濾器除去較大顆粒；第二級采用化學(xué)吸收。吸收劑一般采用醋酸。2、堿液吸收法適用于凈化化鉛鍋、冶煉爐產(chǎn)生的含鉛煙氣。吸收劑一般采用NaOH溶液。3、、鉻、鎘及其化合物廢氣處理、鉻、鎘及其化合物廢氣通常采用吸收法和過濾法處理?！ ∪绲陌绷蜾@法、石灰石膏法、鋼渣石膏法;的是灰石膏法和循環(huán)菱鎂礦法以及的茍性蘇打亞鹽法等。該法是以亞銨溶液作為吸收劑，生成亞氫銨，它再與焦?fàn)t中排出的氨氣反應(yīng)，生成亞銨。亞銨又作為吸收劑，再與SO2反應(yīng)?！ 。?）廣譜性：光催化對從烴到羧酸的種類眾多有機(jī)物有效，沒過環(huán)保署公布的九大類14中污染物均被證實(shí)可通過光催化得到治理，即使對原子有機(jī)物如鹵代烴、染料、含氮有機(jī)物、有機(jī)磷殺蟲劑也有的去除效果，一般經(jīng)過反應(yīng)可達(dá)到凈化。
1、低溫等離子光氧催化在VOCs廢氣處理設(shè)備【廢氣處理工藝流程圖】低溫等離子體處理污染物的原理為在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā);然后引發(fā)一系列復(fù)雜的物理?！ ∫舶ǖ趸?、霧、、、、等無機(jī)廢氣；同時(shí)也有高溫的燃燒廢氣、粉塵等。在實(shí)驗(yàn)過程中產(chǎn)生的廢氣往往成分具有復(fù)雜性、多樣性按照衛(wèi)生組織的定義沸點(diǎn)在50℃-250℃的化合物，，室溫下飽和蒸汽壓超過133.32Pa，在常溫下以蒸汽形式存在于空氣中的一類有機(jī)物?！ ∈酆蠹胺?wù)流程服務(wù)理念韻藍(lán)環(huán)保致力于大氣污染治理的綜合性、高新企業(yè)，以實(shí)踐積累、科技、滾動發(fā)展、行業(yè)的發(fā)展模式，以“客戶滿意度”為宗旨，不斷，生產(chǎn)安全、、經(jīng)濟(jì)、適用的廢氣處理設(shè)備；發(fā)展韻藍(lán)環(huán)保的高科技產(chǎn)品，不斷，構(gòu)建的服務(wù)體系，打造韻藍(lán)環(huán)保的良好口碑?！ ±脭y帶的熱量對吸附床層進(jìn)行加熱升溫，使被吸附的VOCs組分解析出來，并被一同帶入冷凝器，經(jīng)過兩級換熱后，部分有機(jī)物被冷凝液化，終流入儲罐進(jìn)行儲存回收，而不凝氣體則返回其他吸附罐內(nèi)，除去所含高濃度有機(jī)物后，僅剩純凈的再次返回到脫附風(fēng)機(jī)循環(huán)利用。
