| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 華諾激光 | ||
| 加工周期 | 1-5天 | ||
| 適用工件 | 金屬掩膜版 | ||
| 加工定制 | 是 | ||
| 自動化程度 | 全自動 | ||
| 年最大加工能力 | 99999 | ||
| 產(chǎn)品材質 | 不銹鋼、銅、鋁、鉬、鈦合金 | ||
| 加工精度 | ±20um | ||
| 打樣周期 | 1-3天 | ||
| 加工厚度 | 0.05-2.5mm | ||
| 產(chǎn)地 | 北京天津 | ||
| 設備類型 | 皮秒、飛秒 | ||
| 可加工圖案 | 所見即所得 | ||
| 加工優(yōu)勢 | 邊緣光滑無毛刺 | ||
| 售賣地 | 全國 | ||
| 可售賣地 | 北京;天津;河北;山西;內蒙古;遼寧;吉林;黑龍江;上海;江蘇;浙江;安徽;福建;江西;山東;河南;湖北;湖南;廣東;廣西;海南;重慶;四川;貴州;云南;陜西;寧夏 | ||
| 用途 | 掩膜版加工 | ||
| 型號 | CN2207083819 | ||
華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價格需要發(fā)圖紙確認后，才能正式報價。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產(chǎn)品基片上。
不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。
芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優(yōu)質的材料再結合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉移，適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實驗室。
