| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 米歇爾MICHELL | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否進(jìn)口 | 否 | ||
| B泵壓盤直徑 | 1mm | ||
| 包裝規(guī)格 | 標(biāo)準(zhǔn) | ||
| 保修期 | 三年 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
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紫外光刻曝光系統(tǒng)
1、曝光面積：110mm×110mm
2、曝光波長：365nm（純凈光源）
2、分辨力： 1.5μm
3、對準(zhǔn)精度 ± 1μm
4、掩模樣片整體運動范圍：X：6mm;Y:6mm
5、掩模尺寸：2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可擴展為15mm)；
7、照明均勻性：±3
9、掩模相對于樣片運動行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞燈功率：200W
11、曝光量設(shè)定：定時曝光 定時（到計時方式 0.1s-999s任意設(shè)定、設(shè)定精度0.1s）
12、雙目雙視場顯微鏡：物鏡三隊：4X、10X、20X，目鏡三對：10X、16X、20X或者 升級為無極變倍，觀測更加方便。
應(yīng)用領(lǐng)域
集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統(tǒng)、微光學(xué)元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導(dǎo)陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等
.jpg "半導(dǎo)體光刻機、光刻系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、紫外光刻機")
