MPCVD鉆石生長(zhǎng)爐真空腔體
1、極限真空-5Pa
2、出廠(chǎng)漏率1.3*10-10Pa·M3/S
3、根據(jù)圖紙生產(chǎn)，或安需求設(shè)計(jì)
4、可做全套真空部分，含內(nèi)部樣品盤(pán)驅(qū)動(dòng)
鉆石爐腔體、MPCVD設(shè)備、微波晶體生長(zhǎng)設(shè)備，CVD鉆石培育設(shè)備
——按照客戶(hù)要求，加工訂制；
——一對(duì)一專(zhuān)業(yè)出圖設(shè)計(jì)；
——可配套真空機(jī)組系統(tǒng)；
——耐高溫、耐腐蝕；
——高質(zhì)量、高精度；
加工工藝，采用真空焊接技術(shù)拼裝焊接；
先進(jìn)的真空撿漏設(shè)備，更加保證產(chǎn)品的質(zhì)量；
我公司采用三維建模軟件，按照實(shí)際比例建立三維模型，根據(jù)客戶(hù)文字、語(yǔ)言草圖等需求描述，專(zhuān)業(yè)設(shè)計(jì)出適合客戶(hù)所需產(chǎn)品方案（在方案定稿之前所有設(shè)計(jì)不收取任何費(fèi)用）。
為了生產(chǎn)出最匹配客戶(hù)需求的產(chǎn)品，需要告知我公司以下幾個(gè)問(wèn)題點(diǎn)：
1、產(chǎn)品在使用過(guò)程中是否有溫度產(chǎn)生，高溫和低溫分別是多少攝氏度，是否需要通水或液氮冷卻等內(nèi)外在因素。
2、對(duì)產(chǎn)品材質(zhì)是否有特殊要求，真空領(lǐng)域腔體常用材質(zhì)為：碳鋼、鋁、304不銹鋼、316不銹鋼等
3、產(chǎn)品的鏈接方式，抽真空的方式，抽真空所用的真空泵等
4、腔體真空度的要求，腔體抽完真空以后是否需要沖入保護(hù)氣體或其他氣體。
通常常見(jiàn)真空腔體技術(shù)性能：
材質(zhì)：304不銹鋼或客戶(hù)材質(zhì)。
腔體適用溫度范圍：-190℃~+1200℃
密封方式：氟膠“O”型圈或金屬無(wú)氧銅密封圈
出廠(chǎng)檢測(cè)事項(xiàng)：1、真空漏率檢測(cè)：標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)漏率：1.3*10-8Pa·L/S
2、水冷水壓檢測(cè)：標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)壓力：8公斤24小時(shí)無(wú)泄漏檢測(cè)。
內(nèi)外表面處理：拉絲拋光處理、噴砂電解處理、酸洗處理、電解拋光處理和鏡面拋光處理等。
實(shí)驗(yàn)室真空系統(tǒng),真空腔體,真空探針臺(tái)
